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硫化鉛量子點 PbS QDs
    發布時間: 2017-12-18 17:24    

PbS(硫化鉛)量子點可吸收紫外線、可見光和短波紅外(SWIR)光譜范圍只需將納米顆粒尺寸從 3 nm 調整到 6 nm,即可將吸收峰從 800 nm 調整到1550 nm。該材料具有出色的光吸收和光電特性,被認為是短波紅外(SWIR)光電探測器和圖像傳感器中最好的量子點吸收劑。該材料還適合用作 X射線傳感器和太陽能電池的吸收劑。

PbS(硫化鉛)量子點可吸收紫外線和可見光直至紅外光譜范圍的光,并在紅外范圍內重新發射。只需將納米顆粒尺寸從3nm 調整為6nm,即可將發射波長從900 nm 精確調節到 1600 nm。該材料具有出色的光致發光特性,適合用作紅外發射墨水、探針或用于紅外 LED.


硫化鉛量子點 PbS QDs







應用于近紅外(NIR)短波紅外(SWIR)圖像傳感器


900 – 2500 nm 范圍內的近紅外 (NIR) 或短波紅外 (SWIR) 傳感在機器視覺(用于食品和商品質量檢測和控制、塑料分類)、汽車應用(用于 3D 航空和地理測繪、夜間和惡劣天氣條件(霧/霧/雪)的高級駕駛員輔助系統)、智能手機攝像頭(用于生物識別和 3D 攝影)、AR 和 VR 耳機(用于眼睛跟蹤)、夜視和監視。目前基于混合 InGaAs 技術的相機生產成本高,價格也高(超過 10,000 美元)。它們還具有較窄的靈敏度范圍(高達 1700 nm)和有限的相機分辨率(<1.36 MP)。


圖 .帶有石頭污染物的咖啡豆的 照片:(左)使用可見光相機拍攝的照片,(右)使用 NIR 相機拍攝的照片,咖啡豆(白點)和石頭(黑點)之間存在明顯差異


PbS量子點可以單片集成到硅 CMOS 讀出集成電路 (ROIC) 上,使其成為理想的解決方案。它們的成本效益是 InGaAs 相機的 10-1000 倍,因此更經濟,可用于生產具有寬帶靈敏度(300-2500 nm)的高分辨率(高達 10 MP)圖像傳感器。


當用于 NIR (SWIR) 傳感器時,PbS量子點可以產生以下優勢:

  • 它們可以通過印刷/旋涂制造工藝輕松集成到硅 CMOS ROIC 中。這可以實現高分辨率和低成本。

  • 它們在可見光和 NIR (SWIR) 范圍內具有廣泛的靈敏度,從 300 nm 到 2500 nm(可根據量子點粒徑進行調節)

  • 它們具有卓越的光電特性,具有高器件 EQE 和探測率,以及低暗電流。





SWIR圖像傳感器技術比較


下表說明了量子點 SWIR (NIR) 傳感器技術與傳統和其他新興 SWIR 技術的比較。選擇這些屬性是因為它們在典型的 SWIR 圖像傳感器相機中的重要性。



硅CMOS是目前相機中廣泛應用的一種傳感器技術。硅 CMOS 傳感器在可見光范圍內提供高性能和高效率,EQE 高達 80%,暗電流極低 < 1 nA/cm2,分辨率超過 2-10 MP,典型像素尺寸為 1-3 μm。然而,其靈敏度在 SWIR 范圍內(超過 800 nm)顯著下降。使用 36-50% 的 EQE 可以將靈敏度范圍擴展到 940 nm,但由于硅的固有特性在 1100 nm 處具有完全吸收截止,因此向更長的 SWIR 波段進一步擴展靈敏度是有限的。


有一些技術可以實現 SWIR 傳感。其中最著名的是在 400 – 1700 nm 范圍內工作的 InGaAs 混合 CMOS 技術。該傳感器由外延生長的 InGaAs 層陣列組成。InGaAs 陣列的每個像素通過焊接凸點鍵合與來自硅 CMOS 讀出集成電路 (ROIC) 基板的相應像素相連。盡管傳感器在高 EQE > 75% 和低暗電流 < 10 nA/cm2 方面具有令人印象深刻的特性,但復雜的器件結構和制造導致可擴展性低、成本高(超過 10,000 美元)和分辨率有限(小于具有典型像素間距的 1 MP 分辨率約為 15-20 μm)。最近在將像素間距縮小到 5 μm(分辨率 1.37 MP)方面取得了進展,這種相機的價格上漲得更多。這些限制根本不允許大規模生產 SWIR 傳感器,因此阻礙了它們的大規模采用。


在尋找可負擔得起的替代解決方案時,SWIR 傳感器技術朝著制造單片集成硅 CMOS 的方向發展。已經出現的一種替代方案是等離子技術。它包括在硅基板上沉積一層薄薄的金屬,例如鋁。由于金屬-硅界面中的等離子體效應,SWIR 光會產生光電流。然而,等離子體技術在低 EQE(低于 1-2%)和高暗電流方面表現較差。另一種技術是硅基鍺。它涉及在硅頂部沉積 Ge,從而能夠檢測 400 至 1550 nm 的光。但由于硅和鍺之間的界面不均勻,它會導致更高的暗電流。


最有前途的單片技術之一是基于量子點,與上述技術相比,它具有令人印象深刻的優勢。量子點是具有獨特光電特性的半導體材料納米粒子。PbS 量子點可以分散在各種溶劑中,并簡單地印刷在硅 CMOS 讀出器上,形成量子點堆棧。基于量子點的 SWIR 傳感器表現出高達 60% 的高 EQE,低暗電流 < 10-100 nA/cm2,像素間距低于 2 μm(分辨率超過 10 MP)。該技術的獨特之處之一是只需改變量子點的大小,即可在 350 nm 至 2500 nm 的寬范圍內調節傳感器靈敏度。量子點技術有望大幅降低 SWIR 傳感器和相機的成本(例如,與 InGaAs 傳感器相比降低 100-1000 倍),并且有可能降低傳統硅 CMOS 傳感器的成本。量子點技術能夠使 SWIR 傳感器價格適中,從而使 SWIR 行業在機器視覺、汽車和消費電子領域得到大規模采用。



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